降低光的波长，光源出发是根本方法，但高中学生都知道，水会影响光的折射率——在透镜和硅片之间加一层水，原有的193激光经过折射，不就直接越过了157的天堑，降低到132了吗！
林本坚拿着这项“沉浸式光刻”方案，跑遍米国、德国、东瀛等国，游说各家半导体巨头，但都吃了闭门羹。甚至有某公司高层给TJDCOO蒋尚义捎了句狠话，让林本坚不要再搅局了。
毕竟这只是理想情况，在精密的机器中加水构建浸润环境，既要考虑实际性能，又要操心污染。如果为了这一条短期替代方案，耽误了光源研究，吃力不讨好只是其次，被对手反超可就不好看了。
于是，N康选择了在157上一条道走到黑，却没意识到背后有位虎视眈眈的搅局者。
当时尚是小角色的A斯麦决定赌一把，相比之前在传统干式微影上的投入，押注浸润式技术则更有可能以小博大。
于是就和林本坚一拍即合，仅用一年时间，就在2004年就拼全力赶出了第一台样机，并先后夺下IBM和TJD等大客户的订单。
N康晚了半步，很快也就亮出了干式微影157技术的成品，但毕竟被A斯麦抢了头阵，更何况波长还略落后于对手。
等到一年后，N康又完成了对浸润式技术的追赶，可是客户却已经不承认“老情人”，毕竟GKJ又不是小朋友玩具，更替要钱，学习更要成本。
其实早于1997年，在米国政府一手干预下，当N康被EUVLLC排挤在外时，就已经注定了如今GKJ市场一家独大的结局。
当年为了尝试突破193，Y特尔更倾向于激进的EUV方案，于是在1997年，就攒起了一个叫EUVLLC的联盟。
联盟中的名字个个如雷贯耳：除了Y特尔和牵头的米国能源部以外，还有M托罗拉、AMD、IBM，以及能源部下属三大国家实验室：劳伦斯利弗莫尔国家实验室、桑迪亚国家实验室和劳伦斯伯克利实验室。
这些实验室绝对是米国科技发展的幕后英雄，之前的研究成果覆盖物理、化学、制造业、半导体产业的各种前沿方向，有核武器、超级计算机、国家点火装置，甚至还有二十多种新发现的化学元素。
资金到位，技术入场，人才云集，但偏偏联盟中的米国GKJ企业SVG、Ultratech早在80年代就被N康打得七零八落，根本烂泥扶不上墙。
于是，Y特尔就想拉来N康和A斯麦一起入伙。但问题在于，这两家公司，一个来自东瀛，一个来自尼德兰，都不是本土企业。
偏偏，米国政府又将EUV技术视为推动本国半导体产业发展的核心技术，并不太希望外国企业参与其中，更何况那些八十年代在半导体领域压了米国风头的东瀛企业。
但EUVGKJ又几乎逼近物理学、材料学以及精密制造的极限。光源功率要求极高，透镜和反射镜系统也极致精密，还需要真空环境，配套的抗蚀剂和防护膜的良品率也不高。别说是对小国东瀛与尼德兰，就算是米国，想要一己之力自主突破这项技术，也是痴人说梦。
米国自然不会给东瀛提供以后可能会扼住米国半导体咽喉的机会。