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第一千零九十四章 两条路线(1 / 2)

那个时候,客户们每天排队堵在N康门口等待最新产品下线的热情,就与十几年之后,客户们眼巴巴等着A斯麦EUVGKJ交货的迫切并无二致。

但谁也不曾想,二十年时间不到,风光对调,作为米国忠实盟友的A斯麦就一跃翻身,执掌起代工厂的生杀大权,更成为大国博弈之间的关键杀招。

A斯麦曾经说过,“如果我们交不出EUV,摩尔定律就会从此停止”,

但这真的只是一个盛产风车、郁金香国家,凭借一个三十多人的创始团队,就可以诞生的一个制造业奇迹,半导体明珠吗?

其实,从那台等了整整三年还未曾交付的EUV背后,我们不难看出背后真正的赢家。

在灰姑娘翻身做王后的背后,绵延十多年的,是封锁与反抗,也是复仇与合作。

从市场角度出发,作为另一个时空,上世纪九十年代最大的GKJ巨头N康的衰落,就始于那一回157光源干刻法与193光源湿刻法的技术之争。

背后起主导作用的,是由Y特尔创始人之一戈登·摩尔GordoMoore提出的的一个叫做摩尔定律的产业规范:

集成电路上可容纳的元器件的数量每隔18至24个月就会增加一倍(相应的芯片制程也会不断缩小)。而每一次制程前进,也会带来一次芯片性能性能的飞跃。

这是对芯片设计的要求,但同时也在要求GKJ的必须领先设计环节一步,交付出相应规格的设备来。

几十纳米时代的GKJ,门槛其实并不高,三十多人的A斯麦能轻易入局这个行业,连设计芯片的Y特尔也可以自己做出几台尝尝鲜,难度左右不过是把买回来的高价零件拼拼凑凑,堆出一台难度比起照相机高深些许的设备而已。

而N康与他们不同的是,对手靠的是产业链一起发力,而N康的零件技术全部自己搞定,就像如今的P果,芯片、操作系统大包大揽,随便拿出几块镜片,虽不见得能吊打蔡司,但应付当时的芯片制程却是绰绰有余的。

但造芯片也好,造GKJ也好,关卡等级其实是指数级别增加的,上世纪90年代,GKJ的光源波长被卡死在193,成为了摆在全产业面前的一道难关。

雕刻东西,花样要精细,刀尖就得锋利,但是要如何把193的光波再“磨”细呢?大半个半导体业界都参与进来,分成两队人马跃跃欲试:

N康等公司主张用在前代技术的基础上,采用157的F2激光,走稳健道路。

而新生的EUVLLC联盟则押注更激进的极紫外技术,用仅有十几纳米的极紫外光,刻十纳米以下的芯片制程。

但技术都已经走到这地步,不管哪一种方法,做起来其实都不容易。

这时候TJD一个叫做林本坚的鬼才工程师出现了: